高磷化鎳體系
Niklad 1000
槽液中含有12-13% 的磷.可提供最大腐蝕保護之高磷含量産品。應用於航天、
石油工業而且同樣應用於磁盤應用中。良 好的封裝焊錫性。
Vand-Aloy 4100
應用於所有類型生産之高速、半光、高磷産品。採用12%不鏽鋼或PP槽體(不要使用具有陽極保護特性之鋼槽)
Vand-Aloy 4200
適用於普通生産或高速生産之含10-12% P 之高速槽液.最適於在具有陽極保護性的鋼槽和傳統的PP設備中使用
Elnic 101
含10-11% P之槽液. 可適用於所有應有。可與Elnic 121 TF 和 Niklad NiL分散劑一起使用. 鍍層已經FDA 核准.
中磷化鎳體系
Niklad 787
適用於所有工廠操作之特別光亮、快速槽液。可適用於PP和不鏽鋼設備
Vand-Aloy 6000
Full bright version of Vand-Aloy 5000. .適用於高産應用之中磷槽液。可提供良好的産量。
它是磷酸鹽pH控制之理想選擇
Elnic 105
半光、不含鎘之鍍層。Semi-bright, cadmium free deposit. 槽液是針對高厚度操作之最佳選擇
(>25微米)
Vand-Aloy 5000
應用於高生産率應用之半光、無鎘、中磷槽液。它可提供高産量並且極其適合於高厚度鍍層要求中
(>25 微米)。它是磷酸鹽pH控制之理想選擇 。
中-低磷化鎳系列
Niklad 767
非常光亮，5-6%磷含量.應用於工廠生産之高速槽液。在獲得均一鍍層的同時可獲得長的使用壽命。
多功能體系、可承受 高或低負載。使用最爲廣泛的體系
Niklad 768
高産量，與Niklad 767相比負載量更大.
Niklad 797
適用於高産量應用之非常光亮、高速之槽液 (3.5-4.5% P). 鍍層很硬 。此體系可在160oF (70oC)
溫度下開始電鍍，而且理 想地適用於低溫操作更爲有利的特殊應用中
Niklad 799
光亮，與797 槽液相比不含鎘.
低磷化鎳系列
Niklad 724
半光鎳層。此體系可獲得均一的1.5-3% 磷含量之鍍層. 在進行熱處理前後，
都具有極佳的鍍層硬度和耐磨性。良好的延展 性。在電子應用中極爲適用(具有焊錫性、銅焊性等)
鎳硼系列
Niklad 752
0.2 - 0.5% 硼體系主要應用所有類型的電子應用領域中。鍍層可提供高導電性、
具有低的接觸陰力並顯示出一些電鍍層之 硬度和耐磨性。鍍層同樣可在焊接操作中使用，
因爲它具有超長的焊錫封裝壽命。此鍍層在某些特殊應用中可代替金。
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